磁控溅射镀膜设备的工作原理要从一开始的“溅射现象”说起。人们由起初发觉“溅射现象”发展至“溅射镀膜”此间历经了相当长的发展时间，溅射现象早在19世纪50年代的法拉第气体放电实验就已经发现了。不过当时还只将此现象作为一种避免范畴的研究，认为这种现象是有害的。直到20世纪，才有人证明了沉积金属是阴极被正离子轰击才溅射出来的物质。…

赉晟科技今天要介绍薄膜制作中有关膜厚的测定、 基片的准备和清洗等问题。 薄膜必须沉积在基底之上， 所以离开了基片也就无从谈薄膜沉积的问题。基片的清洗好坏又对薄膜的质最有极共重要的影响。同时在薄膜的制作中还必须知道薄膜的厚度，脱离了薄膜的厚度来谈薄膜性质的测最也是亳无意义的。 所以， 膜厚的测量和基片的清洗可以说是和薄膜制作相关的重要技术。…

所谓CVD就是化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）的简称。CVD真空镀膜设备是一种以化学反应方式制作薄膜的工艺装置。CVD真空镀膜设备的工作原理是把含有制膜性能材料的反应气体通向作用基材，在基材上发生化学反应形成薄膜的一整个薄膜生成过程。…