常用制备方法是化学气相沉积法(CVD)，反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。制备过程为环状二聚体在高温下两个相连甲基碳碳键断裂，生成具有活性的对二亚甲基苯单体，当其从高温环境进入室温环境的沉积室时，不稳定的单体就会聚合成膜。整个制备工艺过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。…

磁控溅射是一个运行模式的二级溅射。它与二，四级溅射的主要不同点；一是，在溅射的阴极靶后面设置了永久磁钢或电磁铁。在靶面上产生水平分量的磁场或垂直分量的磁场，由气体放电产生的电子被束缚在靶面附近的等离子区内的特定轨道内运转；受电场力和磁场力的复合作用，沿一定的跑道作旋转轮转圈。…

磁控溅射镀膜设备的工作原理要从一开始的“溅射现象”说起。人们由起初发觉“溅射现象”发展至“溅射镀膜”此间历经了相当长的发展时间，溅射现象早在19世纪50年代的法拉第气体放电实验就已经发现了。不过当时还只将此现象作为一种避免范畴的研究，认为这种现象是有害的。直到20世纪，才有人证明了沉积金属是阴极被正离子轰击才溅射出来的物质。…

赉晟科技今天要介绍薄膜制作中有关膜厚的测定、 基片的准备和清洗等问题。 薄膜必须沉积在基底之上， 所以离开了基片也就无从谈薄膜沉积的问题。基片的清洗好坏又对薄膜的质最有极共重要的影响。同时在薄膜的制作中还必须知道薄膜的厚度，脱离了薄膜的厚度来谈薄膜性质的测最也是亳无意义的。 所以， 膜厚的测量和基片的清洗可以说是和薄膜制作相关的重要技术。…

所谓CVD就是化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）的简称。CVD真空镀膜设备是一种以化学反应方式制作薄膜的工艺装置。CVD真空镀膜设备的工作原理是把含有制膜性能材料的反应气体通向作用基材，在基材上发生化学反应形成薄膜的一整个薄膜生成过程。…

为满足烧结钕铁硼在新能源汽车、风电等领域的应用，稀土永磁体行业已经普遍采用晶界扩散退火工艺（GBDP）来提高矫顽力等性能。在该领域，本公司提供如下服务：（1）不同牌号烧结钕铁硼结晶扩散工艺的开发；（2）大规模镝铽镀膜生产以及（3）后续烧结处理服务。…

针对不同工业领域对于超厚贵金属镀层的需求，结合我公司核心三维溅射镀膜的技术优势（沉积速率快、镀层结合力高以及对复杂几何形状的整体覆盖能力强等），本公司已经开始批量为介质陶瓷滤波器、金属腔体滤波器以及电工合金触点提供打样及镀膜服务。…

PVD氮化物镀层在刀具、工模具行业具有广泛的应用，不同行业有着不同的要求。本公司目前已具备磁控溅射、多弧以及PECVD法制备硬质镀层的开发及生产能力，欢迎业内企业来电咨询。…